108 年 108年公務人員高等考試三級考試暨普通考試・材料分析 申論 1X 光繞射分析為解析材料晶體結構常用的技術，㈠請說明X 光繞射原理。（10 分）㈡當欲分析的樣品為薄膜時，一般會選用低掠角X 光繞射儀，請說明其原因。（5 分）㈢若改以電子束進行繞射，所得繞射結果有何異同？（10 分） 看答案與解析