高普考題庫
104 年 104年公務人員高等考試三級考試暨普通考試・半導體工程
申論 5TEOS（tetra-ethyloxy-silane）oxide 常使用於PMD（premetal dielectric）及IMD（intermetal dielectric），若不加其他摻雜物稱為USG（undoped silicate glass），請說明：（每小題5 分，共15 分）㈠PSG 用途為何及需摻雜何種元素。㈡BPSG 用途為何及需摻雜何種元素。㈢FSG 用途為何及需摻雜何種元素。