申論 5探討某半導體的三種氣體配方對晶圓片的表面平整度的影響。令μ 表示配方i 晶圓片i的表面平整度之平均數每種氣體配方抽6 個資料，利用表1 之資料回答問題：（每小題10 分，共20 分）㈠完成變異數分析表（填入(a)–(e)值）。㈡建立統計檢定（i.e.,也就是虛無H 與對立假設H），並做出結論。表1：一因子之反應值Yij氣體配方表 面 平 整 度配方1. 2.7 4.6 2.6 3.0 3.2 3.8配方2. 4.9 4.6 5.0 4.2 3.6 4.2配方3. 4.6 3.4 2.9 3.5 4.1 5.1表2：1 因子變異數分析（ANOVA）表變異來源 SS df MS FTreatment 3.648 (a) (c) (e)Error 7.630 (b) (d)Total 11.278 17（請接第三頁）106年公務人員高等考試三級考試試題 代號：28150第三頁類科：工業工程科目：工程統計學與品質管制（請接第四頁）106年公務人員高等考試三級考試試題 代號：28150第四頁類科：工業工程科目：工程統計學與品質管制