高普考題庫
102 年 102年公務人員高等考試三級考試暨普通考試・半導體工程
申論 5在熱氧化製程中,分析發現氧化物厚度x 與氧化時間t 之間的關係為下列的二次方ox程式:x2+Ax=Btoxox㈠在剛開始氧化的初期,求氧化物厚度x=?(表示為t 之函數)(5 分)ox㈡當氧化反應持續很久之後,求氧化物厚度x=?(表示為t 之函數)(5 分)ox下列實驗數據是在920°C 下進行溼氧化所得到的原始成長速率關係:時間t(hr) 0.11 0.30 0.40 0.50 0.60氧化物厚度x(μm) 0.0410.100 0.128 0.1530.177ox由上述實驗數據求該氧化製程的係數:㈢ A=?(5 分)㈣B=?(5 分)