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101 年
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半導體工程
› 第 7 題
101 年 101年公務人員高等考試三級考試暨普通考試・半導體工程
申論 7
氫氟酸(HF)是二氧化矽的良好蝕刻劑,但卻無法蝕刻矽。說明如何使用包含氫氟酸的混合溶液來蝕刻矽?(10 分)
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