高普考題庫
114 年 114年公務人員高等考試三級考試暨普通考試・工程統計學與品質管制
申論 1一項新光阻塗覆製程被使用於製造積體電路的125 毫米晶片的生產。挑10 片晶片測試，測量的光阻厚度（單位：埃×1000）如下：13.3987、13.3946 及13.4002。（每小題10 分，共20 分）㈠請檢定厚度平均為13.4×1000 Å 的假設。請使用α=0.05，並說明其雙邊對立假設。㈡假設厚度資料呈常態分配，求厚度平均數99%的雙邊信賴區間。