108 年 108年公務人員高等考試三級考試暨普通考試・材料科學導論 申論 2㈠X 光繞射為分析材料晶體結構的重要方法，請自行畫圖及列式證明Bragg’sLaw。（10 分）㈡某一材料為BCC 結構，其晶格邊長為0.26 nm，若X 光波長為0.154 nm，反射order 為1 時，請計算（222）面的面間距。（10 分） 看答案與解析