99 年 099年公務人員高等考試三級考試暨普通考試・空氣污染與噪音防制 申論 3㈠試繪圖說明2,3,7,8-TCDD（四氯戴奧辛）之化學結構並說明台灣地區主要之戴奧辛排放源。（6 分）㈡何謂低溫再合成（de novo synthesis）？此一機制容易在何種粒狀物控制設備中發生？並請說明其原因。（6 分）㈢活性炭噴入及觸媒轉化技術已廣泛應用於固定污染源戴奧辛之排放控制，試說明這兩種管末處理技術之原理及優缺點。（8 分） 看答案與解析